3D曝光機(jī)核心技術(shù)
數(shù)字化成像技術(shù)
利用TI的圖形發(fā)生器-數(shù)字微鏡器件(DMD)芯片來產(chǎn)生數(shù)字圖像, DMD由80萬或200萬個(gè)微鏡組成,在DMD光斑范圍內(nèi),能保證清晰和銳利的方形網(wǎng)點(diǎn)。這種最新的數(shù)字曝光系統(tǒng)已成為業(yè)界新標(biāo)準(zhǔn)。
375納米激光器
工業(yè)級別375納米耦合激光器,自主研發(fā)了激光成像系統(tǒng),將375納米耦合激光器激光利用率 從傳統(tǒng)的30%提高至50%
高精度光學(xué)引擎
DLP(Digital light processing)光學(xué)系統(tǒng)采用UV激光光源,輸出的激光通過特種準(zhǔn)直鏡頭實(shí)現(xiàn)對DMD的高均勻照明,最后通過投影鏡頭實(shí)現(xiàn)圖形的輸出。投影鏡頭為采用紫外特種光學(xué)材料的雙遠(yuǎn)心鏡頭,具有低畸變,高透過率的特點(diǎn)。
高精度運(yùn)動(dòng)平臺
±1μm運(yùn)動(dòng)控系統(tǒng);運(yùn)動(dòng)誤差實(shí)時(shí)補(bǔ)償系統(tǒng)