3Dカバープレートのデジタル?マスクレス?イメージング技術(shù)のパイオニア

ML-300 は直接、3D 曲面ガラスカバープレートの高精度な露光の実現(xiàn)により、高解像度、高生産性及び高歩留まりの製品を提供できます。安定した冷卻システムで裝置內(nèi)部を22℃の恒溫狀態(tài)で管理することにより、裝置の安定を保障します。また、集積回路用の高精度な「ネガティブフォトレジスト」技術(shù)の3D曲面ガラスカバープレートへの適用を成功させました。この技術(shù)は、3D 曲面ガラスカバープレートの一次歩留まりを95%以上までに向上させると同時(shí)に、より微細(xì)な図形や、より良い色の再現(xiàn)性が実現(xiàn)できます。従來(lái)のスクリーン工法の低い歩留まり、高再加工率、線幅のバラツキなどの欠點(diǎn)を改善させます。

3D アプリケーションの利點(diǎn)：

マスク/フォトマスクなし、非接觸リソグラフィー
高生産性、高歩留まり、低コスト
柔軟な生産、迅速な製品切り替え

·不規(guī)則に曲げたガラス（<30um）でに高品質(zhì)のグラフィックス転送できます
·Z軸のリアルタイムフォーカシングし、ソフトウェア側(cè)リアルタイム補(bǔ)正によって、各仕様の製品へ処理できます
·2.5D / 3D / 4曲面/ U字型/サラウンド形狀およびその他の曲面ガラスグラフィックスを完成させることができます

產(chǎn)能	歩留まり	交換性	サンプル製作コスト
1200 pcs/h	≥95%	従來(lái)のすべてのプロセスよりも高い	従來(lái)のすべてのプロセスよりも低い

ガラスの発展動(dòng)向VS工法の革新

転寫印刷法

平行光技術(shù)

GISレーザー直接フォトエッチング技術(shù)

3D露光設(shè)備のコア技術(shù)

デジタルイメージング技術(shù)

TIの図形発生器-デジタル?マイクロミラー?デバイス（DMD）チップを利用して、デジタルイメージを生成します。 DMDは、80萬(wàn)或は200萬(wàn)のマイクロミラーからなり、DMDスポットの範(fàn)囲で、方型ドットの鮮鋭さやシャープネスが保証できます。この最新デジタル露光システムは、既に業(yè)界の新しい基準(zhǔn)になっています。

375ナノメートルレザー発生器

工業(yè)レベル375ナノメートルカップリングレーザー発生器であります。獨(dú) 自に開(kāi)発したレーザーイメージングシステムで、375ナノメートルカップリングレーザー発生器のレーザー利用率を従來(lái)の30%から現(xiàn)在の50% まで引き上げています。

高精度の光學(xué)エンジン

DLP（Digital light processing）光學(xué)システムは、UVレーザー光源を使用し、出力されるレーザーは特種コリメータレンズによりDMDに対する非常に均一な照明を?qū)g現(xiàn)し、最後に投影レンズでイメージの出力を?qū)g 現(xiàn)します。投影レンズは、紫外線特種光學(xué)材料を使用する雙テレセントリックレンズで、低いひずみと高い透過(guò)率という特徴があります。

高精度運(yùn)動(dòng)システム

±1μm運(yùn)動(dòng)制御システム；運(yùn)動(dòng)誤差のリアルタイム補(bǔ)償システム

先端インテリジェント3Dガラスカバープレート全ラインの自動(dòng)化ソリューション

本ソリューションは3 Dカバーガラスの加工需要に応じ、曲面カバーガラスのプロセスに適用。全ラインの自動(dòng)ローダー/アンローダー、パネル/プラズマ洗浄機(jī)、自動(dòng)スプレーコータ、トンネル式表面乾燥機(jī)、直寫式レーザー露出機(jī)、現(xiàn)像/洗浄機(jī)、トンネル式ベークラインまたは立型オーブンなどを含む補(bǔ)助設(shè)備があります。高解像度、高生産性、高生産量、より薄い厚さ、より高い品質(zhì)（外観）、低コスト。3 D Glass LDIの適用分野：ウェアラブル製品、自動(dòng)車製品、スマホン製品、家庭用電気製品など

プラズマ洗浄	3 Dフォットレジスト塗布	GIS 露光	現(xiàn)像	固化	イメージング
ガラス表面のクリーニング	噴涂控制單次膜厚 3μm±0.05	公差±0.05mm	低殘像，現(xiàn)像効果の制御	立型オーブン，溫度が均一　±5℃で制御	洗浄後膜で包裝クライアントへ出荷

裝置仕様/型番	GL600シリーズ
適用業(yè)種	大曲面車載玻璃
裝置寸法mm(カスタマイズ可 )	2430x1900x2015
感光時(shí)間CT/pcs	30-50s
最大曝光面積(可訂制 )	1000*300mm
対応できるフォトレジスト厚さ	1-15um (常規(guī)6um)
定格電圧	単相 220V/50HZ アース良好
定格圧縮空気圧力	0.8 Mpa
レーザー波長(zhǎng)	375nm±10nm
レーザー伝送方式	光ファイバー
感光材料	フォトレジスト
畫像解像度	12700dpi
最大出力	4KW (Laser 6w ) / 4.5KW (Laser 9w )
出力レーザーパワー	6W (±3%)/ 9W (±3%)
データフォーマット	Gerber274X
露光精度	50±5μ
多層位置合わせ精度	40um
インクの輪郭鋸歯	≤15μm
VAエリア長(zhǎng)寛?jiān)S容差	±60um
位置偏差	≤60um
ハードウエア繰り返し精度	±10um